P01400 - SEMI P14 - Determination of Tin in Positive Photoresists by Graphite Furnace Atomic Absorption Spectroscopy Revision:SEMI P14-0997 - Inactive この手順は，サーマルマスフローコントローラに適用される。供給される質量流量の変化を，基準定常供給電圧からの偏移の関数として測定することを意図している。試験方法は，DC電源で動作するMFCを対象に設計されている。供給電圧の影響には，DC電源の電圧降下と過電圧変動が含まれる。

この手順は，サーマルマスフローコントローラに適用される。供給される質量流量の変化を，基準定常供給電圧からの偏移の関数として測定することを意図している。試験方法は，DC電源で動作するMFCを対象に設計されている。供給電圧の影響には，DC電源の電圧降下と過電圧変動が含まれる。

The purpose of this Specification is to provide a standard for the quality of the wetted surfaces of stainless steel components used in the chemical (gas and liquid) distribution systems of semiconductor manufacturing facilities

polyvinylidene fluoride (PVDF)

マテリアル搬送・格納コンポーネントの範囲には，下記のインタフェースが含まれる。

P01400 - SEMI P14 - Determination of Tin in Positive Photoresists by Graphite Furnace Atomic Absorption Spectroscopy Revision:SEMI P14-0997 - Inactive この手順は，サーマルマスフローコントローラに適用される。供給される質量流量の変化を，基準定常供給電圧からの偏移の関数として測定することを意図している。試験方法は，DC電源で動作するMFCを対象に設計されている。供給電圧の影響には，DC電源の電圧降下と過電圧変動が含まれる。NOTICE: This Standard or Safety Guideline has an Inactive Status because the conditions to maintain Current Status have not been met. Inactive Standards or Safety Guidelines are available from SEMI and continue to be valid for use. This procedure is a graphite furnace atomic absorption analytical method for tin in photoresist. The applicable concentration range is 0. 1 to 1 ppm when the sample is diluted one to ten. The precision was found to be